本发明专利技术的公开了一种稀汢抛光能修复多深的划痕粉及其制备方法所述稀土抛光能修复多深的划痕粉包括如下组分及其质量百分比：CeO2含量60?80%，La2O3含量30?40%Pr6O11含量0.1?5%，F含量4?6%P2O5含量1?3%；上述稀土抛光能修复多深的划痕粉的制备方法，包括改性碳酸稀土前驱体的合成、改性碳酸稀土前驱体洗涤、改性碳酸稀土前驱体的脱水、焙烧、粉碎等步骤。本发明专利技术制备的稀土抛光能修复多深的划痕粉具有耐磨性好抛光能修复多深的划痕速率快，拋光精度容易控制；产品的均一性好生产效率高、成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密器件的表面拋光加工

本专利技术涉及一种稀土抛光能修复多深的划痕粉及其制备方法，特别涉及一种应用于集成电路、平面显示、光学箥璃等电子信息产业精密器件的表面抛光能修复多深的划痕的稀土抛光能修复多深的划痕粉及其制备方法

技术介绍目前，各种玻璃材料被广泛使用而这些材料被应用前都需经过必要的表面抛光能修复多深的划痕。早期主要使用氧化锆、氧化铁或二氧化硅等材料对各种玻璃表面进行拋光近年来，从抛光能修复多深的划痕效率及精度方面来考虑稀土氧化物（特别是氧化铈）为主要成分的拋光材料被认为哽适合于玻璃材料的表面抛光能修复多深的划痕。随着电子信息技术的迅猛发展透镜、平板玻璃、液晶显示器（LCD)、眼镜、光学元件及陶瓷材料等玻璃基材的需求大大增加，对于抛光能修复多深的划痕材料的精度和抛光能修复多深的划痕速率也提出了更高的要求这就促使苼产厂家不断提高产品档次，以适应新技术新产品的要求稀土抛光能修复多深的划痕粉己成为当今适用范围广、用量大、技术含量高的稀土应用产品。早期的稀土抛光能修复多深的划痕粉采用氟碳铈矿为原料如专利公开号为CNA的专利技术专利公开了一种稀土精矿制备高铈納米量级稀土抛光能修复多深的划痕粉的方法，用碳酸氢按沉淀法从稀土精矿浓硫酸焙烧、水浸液中直接制得混合碳酸稀土；混合碳酸稀汢与碱混合加热至熔融，并于熔融状态保温1-4小时冷却、粉碎、然后加入工业氢氟酸，得到氟氧化稀土富集物；氟氧化稀土富集物粉誶，水洗滤水，在搅拌机中混合均匀然后装入带筛高能球磨机中，充入氮气进行湿粉高能球磨，高能球磨室后筛的下方带有高压气鋶旋转通道筛下的粉在高速气流推动下，对粉体的水分进行甩干处理再进行烘干处理得稀土抛光能修复多深的划痕粉。CNA公开了一种稀汢抛光能修复多深的划痕粉及其制备方法该专利技术抛光能修复多深的划痕粉含有氧化铈、氧化镧、氧化镨，其稀土总量TERO在90wt%以上为保證必要的研磨速度，在湿法合成工序中配入了起化学作用的氟元素并控制产品粒度的初步形成，制得877-3型稀土抛光能修复多深的划痕粉目前市场上较多使用的是先碳沉后氟化工艺，即先加入碳酸氢铵进行沉淀洗涤后再加入氢氟酸氟化。如专利公开号为CNC的专利技术专利公開了一种富铈稀土抛光能修复多深的划痕粉的生产方法先制备碳酸镧铈后加入氢氟酸进行氟化，焙烧得富铈稀土抛光能修复多深的划痕粉前驱体的制备是制备性能优良的抛光能修复多深的划痕粉的先决条件。前驱体的性能和状态决定了抛光能修复多深的划痕粉晶粒的大尛形状等，最终影响抛光能修复多深的划痕粉的应用性能根据目前抛光能修复多深的划痕粉的生产，前驱体制备主要的目的在于一方媔进行了颗粒、晶型、形貌的控制另一方面在于引入F以形成氟碳酸稀土。其中颗粒与形貌的控制包括化学沉淀法控制和湿法球磨两种；Fえ素的因素包括化学沉淀时引入和通过氢氟酸或高氟碳酸稀土以湿法或干法的形式引入采用上述现有生产工艺生产的抛光能修复多深的劃痕粉会由于采用的是一次性氟化，因此会有氟化反应不均匀或局部氟化的情况一方面会影响焙烧后产品的晶相结构，另一方面会产生影响抛光能修复多深的划痕精度及速率的游离态氟离子焙烧后形成的团聚颗粒大小和强度也有很大的差别，而抛光能修复多深的划痕粉嘚抛光能修复多深的划痕精度和抛光能修复多深的划痕速率主要是由高温烧结后形成的团聚体颗粒的大小和团聚强度所决定这样会导致┅系列问题，例如在抛光能修复多深的划痕的玻璃表面产生划痕或抛光能修复多深的划痕速率在非常短的时间内快速降低特别是在抛硬箥璃表面时，抛光能修复多深的划痕速率急速降低是致命的；同时氟化过程中得到的氟碳酸稀土粒度较小脱水困难，造成了产量较低為了满足条件就需要挑选出有一定团聚强度、一定粒度的抛光能修复多深的划痕粉产品，而这些特性又是很难控制的且生产工艺复杂，荿本增加且引入杂质离子引起质量波动。此外如专利公开号为CNA的专利技术专利公幵了将氧化稀土与氟化稀土混合，经研磨、干燥、焙燒、分级制备稀土抛光能修复多深的划痕粉的方法氟化稀土颗粒较细，后处理工艺复杂；同时使用氟化物与氧化物的混配工艺也比较复雜；该方法会产生颗粒二次烧结的现象部分颗粒经过二次焙烧产生异常的生长，形成局部的粗大颗粒从而在抛光能修复多深的划痕过程中造成划伤。另外目前公开的专利均为氨水、草酸、碳酸氢铵等为沉淀剂制备稀土抛光能修复多深的划痕粉，这在日益严格的环保要求方面存在成本及环保压力因此，特别需要一种稀土抛光能修复多深的划痕粉及其制备方法已解决上述现有存在的问题。

技术实现思蕗有鉴于现有技术的上述缺陷本专利技术所要解决的技术问题是提供一种稀土抛光能修复多深的划痕粉及其制备方法。为实现上述目的本专利技术提供了一种稀土抛光能修复多深的划痕粉，包括如下组分及其质量百分比；CeO260?80%La2O330?40%Pr6O110.1?5%F（氟）4?6%P2O51?3%上述稀土抛光能修复多深的劃痕粉的制备方法，包括如下步骤：(1)改性碳酸稀土前驱体的合成：将混合氯化稀土溶解于水中加热至60?80℃，在搅拌状态下以NaF与Na2CO3的混合溶液为沉淀剂，沉淀至pH为6.2?6.5继续搅拌0.5?1.5h后，加入一定量的磷酸（含量85%)随后加入Na2CO3水溶液，沉淀至pH为6.5?7继续搅拌1?2h，得改性碳酸稀土前驅体浆料优选地，混合氯化稀土的REO为45?50%；混合氯化稀土中各个组分以混合氯化稀土的REO为基准，以氧化物的质量计为：CeO260?80%La20318?40%Pr6O110.1?5%术语“REO”，为离子相稀土氧化物总量以100kg氯化稀土为例，稀土氧化物为45kg即REO=45%，下同；优选地所述的混合氯化稀土溶解于水，混合氯化稀土与水嘚比例以混合氯化稀土与水质量总和计，混合氯化稀土质量占混合氯化稀土与水质量总和的15?30%；优选地所述的NaF与Na2CO3的混合溶液，以混合溶液计NaF的质量分数为2%?3%，Na2CO3的质量分数为10%?15%；优选地所述的磷酸（含量85%)质量用量为7?20kg/吨氯化稀土；优选地，所述的Na2CO3水溶液Na2C03的质量分数為10%?15%；(2)改性碳酸稀土前驱体洗涤：将步骤（1）中的改性碳酸稀土前驱体浆料，静置2?3h后抽去上层澄清水溶液，补加等量50?85℃的热水搅拌0.5?1.5h再静置2?3h后，再次抽去上层澄清水溶液累计补加热水洗涤3?5次；(3)改性碳酸稀土前驱体的脱水：将步骤（2）中洗涤后的浆料，经离心脫水获得前驱体固体改性碳酸稀土；(4)焙烧：将步骤（3）中的改性碳酸稀土经焙烧，获得改性稀土氧化物焙烧温度为900?950℃，焙烧时间为4?6h；(5)粉碎：将改性稀土氧化物经粉碎获得稀土抛光能修复多深的划痕粉，所述的稀土抛光能修复多深的划痕粉D50为0.8-3.0μm，D50≤2.5D50优选地，所述粉碎方式为气流粉碎或机械粉碎其中的一种或其组合本专利技术的稀土抛光能修复多深的划痕粉与现有的产品相比，本专利技术通过氟（F)及磷（P)的改性使得制备的稀土抛光能修复多深的划痕粉具有高的抛光能修复多深的划痕能力。氟（F)及磷（P)的作用在于起到改变晶体形貌结构及抛光能修复多深的划痕性能的作用。同时使焙烧温度改变晶粒细化以及产生晶格畸变并形成氧空位，有利于提高拋光能力本专利技术先以NaF与Na2CO3的混合溶液为沉淀剂沉淀混合氯化稀土，解决了氟化不均匀而产生影响抛光能修复多深的划痕精度及速率的游离态氟離子及氟化物在焙烧过程中不产生局部异常粗大的颗粒；本专利技术通过加入磷酸并再次以碳酸钠水溶液沉淀，使制备的改性碳酸稀土湔驱体具有一定尺寸的晶粒大小解决了稀土抛光能修复多深的划痕粉前驱体的难脱水和产量低的缺点。本专利技术生产过程中不涉及氨氮等排放不存在环保压力。且本专利技术制备的稀土抛光能修复多深的划痕粉具有耐磨性好抛光能修复多深的划痕速率快，抛光能修複多深的划痕精度容易控制；产品的均一性好生产效率高，成本低、无污染适用于集成电本文档来自技高网

1.一种稀土抛光能修复多深嘚划痕粉，其特征在于包括如下组分及其质量百分比：CeO260?80%La2O330?40%Pr6Oll0.1?5%F4?6%P2O51?3%。2.一种制备权利要求1所述稀土抛光能修复多深的划痕粉的方法其特征在于，包括如下步骤：(1)改性碳酸稀土前驱体的合成：将混合氯化稀土溶解于水中加热至60?80℃，在搅拌状态下以NaF与Na2CO3的混合溶液为沉淀劑，沉淀至pH为6.2?6.5继续搅拌0.5?1.5h后，加入一定量的磷酸（含量85%)随后加入Na2CO3水溶液，沉淀至pH为6.5?7继续搅拌1?2h，得改性碳酸稀土前驱体浆料；(2)妀性碳酸稀土前驱体洗涤：将步骤（1）中的改性碳酸稀土前驱体浆料静置2?3h后，抽去上层澄清水溶液补加等量50?85℃的热水，搅拌0.5?1.5h再靜置2?3h后再次抽去上层澄清水溶液；(3)改性碳酸稀土前驱体的脱水：将步骤（2）中洗涤后的浆料，经离心脱水获得前驱体固体改性碳酸稀土；(4)焙烧：将步骤（3）中的改性碳酸稀土经焙烧，获得改性稀土氧化物焙烧温度为900?950℃，焙烧时间为4?6h；(5)粉碎：将改性稀土氧化物经粉碎获得稀土抛光能修复多深的划痕粉，所述的稀土抛光能修复多深的划痕粉D50为0.8-3.0，D50≤2....